任何扫描电子显微镜（SEM）变换为纳米级制造的电子束光刻系统
System features:
■高速图形发生器，包括2个16位DAC控制电子束移动位置和一个8位ADC进行图像采集■PCIe 卡进行电脑控制
■能和 SEM, EBL,FIB
■可以对电子束阀进行控制，甚至不用电子束阀。
■软件基于 (OS Windows™ 2000, XP or 7)
提供 :
■ 设计 2D/3D 结构
■ 2D/3D 邻近效应修正
■ 模拟刻蚀结果图案
■ 曝光和图像采集过程中补偿畸变
该软件提供了三种基本功能
■ 曝光数据准备■ 内置图形编辑器设计结构
■ 邻近效应修正
■ 曝光和抗蚀造型设计
■ 数据输入输出 (GDSII, DXF, ELM, NME, BMP, TIFF...)
■ 特殊数据处理 (Union,Overlaps Out, Dose Stratification, Negative, Dividing, Frame etc.) 以满足特殊要求
■ 曝光控制
■ 可变曝光时间来进行邻近修正
■ 电子束与移动平台同步
■«On-the-fly» 补偿动态延误以及失真来提高写入速 ■ 视频控制对准以及系统调整
■ 通过一组标记窗口来对齐连续曝光
■ 测量和软件补偿扫描系统误差和移动平台
■ 数字显微镜模式，包括帧的编辑，图像采集，图像处理等。
■ 应用领域整
■ 微电子
■ 纳米技术
■ 3D 微纳米结构
■可见光和X射线的衍射光学元件（合成全息图），包括全息图
■数字显微镜
